跳躍六個技術世代　浸潤微影引領全球

從1972年近場成像的論文開始，到2002~2017年的浸潤式微影，累計在半導體的奈米製像技術領域付出達45年。最大貢獻是提出「浸潤式微影、水為介質，搭配193奈米」的新構想，協助產業擺脫157奈米遲遲無法成像的困境，成為一代主流技術。

從理論發明到產線量產的完整創新過程，讓台積電首次主導業界規格，前後跳躍成長六個技術世代，成為世界領先者；並說服業者跟進，對全球半導體產業在65奈米之後、到7奈米的先進製程貢獻極大。

林院士迄今擁有無數頭銜的榮耀肯定─IEEE Fellow、SPIE Fellow、NAE Member、台積電傑出科技院士、中研院院士、工研院院士等；他在人生後半場由科學家轉進教育辦學，投身半導體高等教育，以「專才、通才、活才」為高標，致力培育半導體未來領袖人才。